浸没式光刻注液控制回路及结构设计文献综述

浸没式光刻技术作为推动摩尔定律继续发展的重要途径，近年来得到了广泛关注和研究。

注液系统作为浸没式光刻机的关键子系统之一，其性能直接影响着光刻分辨率、套刻精度以及产能。

本文围绕浸没式光刻注液控制回路及结构设计这一主题，首先阐述了浸没式光刻技术以及注液系统的工作原理，并介绍了注液控制回路和结构设计的国内外研究现状。

接着，重点分析了注液控制回路设计中常见的控制策略，包括PID控制、滑模控制、预测控制等，并比较了它们各自的优缺点。

此外，还探讨了注液结构设计中需要考虑的关键因素，例如喷嘴形状、腔体结构、材料选择等，并介绍了一些典型的结构优化方法。

最后，对浸没式光刻注液控制回路及结构设计的发展趋势进行了展望，并提出了未来可能的研究方向。

关键词：浸没式光刻；注液系统；控制回路；结构设计；精密控制

随着集成电路芯片特征尺寸不断缩小，传统的光刻技术已经难以满足越来越高的分辨率要求。

为了突破光刻极限，浸没式光刻技术应运而生[1]。

浸没式光刻技术通过在投影物镜和光刻胶之间填充高折射率液体（通常为超纯水），可以有效增大数值孔径，从而提高光刻分辨率[2]。