基于静电聚焦的电流体喷头设计与应用文献综述

电流体喷印技术作为一种新兴的微纳制造技术，在制备微电子器件、生物医药材料等领域展现出巨大潜力。

静电聚焦作为一种有效的液滴操控手段，可以显著提高电流体喷印的分辨率和精度。

本文综述了基于静电聚焦的电流体喷头设计与应用的最新研究进展。

首先介绍了电流体喷印和静电聚焦的基本原理，并对不同类型的静电聚焦方法进行了分类和比较。

然后，重点阐述了喷头结构设计、仿真优化以及应用探索等方面的研究现状，并对各种方法的优缺点进行了分析。

最后，展望了基于静电聚焦的电流体喷印技术未来发展趋势和应用前景。

关键词：电流体喷印；静电聚焦；喷头设计；微纳制造；文献综述

近年来，随着微纳米技术在生物医药、柔性电子、微型器件等领域的蓬勃发展，微纳制造技术的需求日益增长。

传统的微纳加工技术如光刻、蚀刻等存在成本高、效率低、污染严重等问题，难以满足新兴应用的需求。

电流体喷印技术作为一种新兴的微纳制造技术，具有成本低、效率高、精度高、可控性强、材料适用性广等优点，在制备微电子器件、生物医药材料、微纳米结构等领域展现出巨大潜力[1-5]。